电子工业气体主要用于薄膜沉积，如化学气相沉积（CVD）或物理气相沉积（PVD法），这些技术主要用来制造半导体或光伏电池。三氟化氮（NF3）、硅烷（SiH4）和氨气是用于半导体、液晶显示器（LCD）和光伏技术领域的三大主要电子工业气体。
     薄膜太阳能电池在不同领域、不同自然条件下的普及应用，使其生产过程中必不可少的电子工业气体消费量以较快速度增长。美国工业气体供应商空气化工产品公司近日预测，全球太阳能电池产能将以年均30%以上的速度增长。
     未来第二代超薄薄膜硅光伏技术的发展，将刺激特种工业气体需求继续加快增长。空气化工产品公司2007年底对外宣布，将对其设在韩国蔚山的NF3装置进行扩能改造，到2009年，该基地的产能将扩大一倍达1000吨/年。另外，该公司还在美国宾夕法尼亚州建有总产能达2200吨/年的NF3装置。